为了进一步认识GeForce GTX 260+,我们不妨来了解一下它从65nm向55nm制程工艺演变过程中的变化。2008年6月,NVIDIA推出了GT200核心产品,先上市的就是GeForce GTX 280/
260,它们基于P651公版设计。由于来自同价位竞争对手Radeon HD 4870的压力,NVIDIA推出了升级了流处理器和纹理单元的GeForce GTX 260,仍然采用P651公版。在全面转向55nm制程工艺后,GeForce GTX 260使用了全新的P654 PCB,并更名为GeForce GTX 260+。由于转向55nm制程工艺后,产品的电气性能进一步稳定,并且为了进一步提升竞争力,NVIDIA再次推出了P897公版GeForce GTX 260+,这期间NVIDIA开放了GeForce GTX 260+的非公版设计授权,大量的非公版产品开始出现。
早的65nm和现在的55nm版本GeForce GTX 260的流处理器和纹理单元数量分别为192个、64个和216个、72个。流处理器和光栅单元数量的差异是65nm和55nm的GeForce GTX 260在规格上大的不同。
65nm和55nm工艺制程的GeForce GTX 260的规格对比 | ||
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GeForce GTX 260 |
GeForce GTX 260+ |
工艺制程 |
65nm |
55nm |
核心编号 |
G200-100-A2 |
G200-103-B2 |
显存容量 |
896MB |
896MB |
显存位宽 |
448-bit |
448-bit |
流处理器 |
192个(216个) |
216个 |
纹理单元 |
64个(72个) |
72个 |
得益于55nm制程工艺,GeForce GTX 260+的核心面积为487平方毫米,较核心面积为576平方毫米的65nm产品缩小了15%左右。同时,由于55nm和65nm的GeForce GTX 260的晶体管数量都为14亿个,如果核心面积减小,那么晶体管将更加密集。理论上,55nm制程将降低芯片的功耗和发热量,产品的预设工作频率也会更高,超频潜力也将进一步提升。
但是在晶体管数量没有变化,核心面积却缩小的情况下,晶体管之间会更密集,因此55nm产品能否大幅降低发热量还需等待我们的测试来验证。
辨别55nm和65nm产品的一个重要手段就是看核心编号,65nm的GeForce GTX 260的核心编号为G200-100-A2,而55nm产品的核心编号为G200-103-B2。期间,为了狙击Radeon HD 4870,在不提升工艺制程的前提下,NVIDIA将GeForce GTX 260的流处理器数量和纹理单元分别升级到
216个和72个,这种版本的GeForce GTX 260的核心编号为G200-103-A2。总的来说,核心编号后一个字母如果是“A”就代表采用65nm制程,如果是“B”则可断定采用的是55nm制程工艺。
65nm的GeForce GTX 260采用了P651 PCB,它使用了3+2相数字供电方案,拥有14层PCB,成本高昂,不适合量产。在全面转向55nm工艺制程后,P654公版PCB成为GeForce GTX 260+的“佳搭档”。P654 PCB摒弃了昂贵的数字供电方案,使用了成本更加合理的模拟供电方案,产品采用了4+2相供电设计,PCB层数为10层。近,NVIDIA再次推出了基于P897 PCB的产品,同样的,它也属于模拟供电方案,该卡一定程度上加强了供电模块,使用了6+1相供电设计,只是PCB层数被进一步缩减至8层。
从PCB的演变可以看出,GeForce GTX 260的用料在一步步被简化,这是因为生产工艺和电气性能稳定后对PCB的要求在下降,可以合理地CostDown降低显卡成本。